Mini-LED使用真空射頻等離子體清洗機進行清潔，七大優點如下

• 分類：公司動態
• 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
• 來源：真空等離子設備生產廠家
• 發布時間：2022-10-13
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【概要描述】Mini-LED使用真空射頻等離子體清洗機進行清潔，七大優點如下： 1.CRF真空等離子體清洗機清潔后表面溫度可以達到50度，被清洗物體已經非常干燥，可以直接進行下一道工序，提高工作效率； 2.不使用三氯乙烷等有害污染物，屬于綠色清潔方式，有利于環保； 3.高頻產生的等離子體不同于激光等直射光，其方向性不強。因此，它可以深入物體的微孔和凹陷，完成清潔任務，因此沒有必要過多考慮清潔物體形狀的影響。此外，這些難以清潔的部件的清潔效果類似于氟利昂清潔效果，甚至更好； 4.整個等離子體清洗機清洗過程可以在幾分鐘內完成，因此具有產量高的特點； 5.控制等離子體清洗的真空度約為100Pa，這種真空度在工廠實際生產中很容易實現。該裝置的設備成本不高，清洗過程中不需要使用昂貴的有機溶劑，因此其運行成本低于傳統的清洗工藝； 6.生產現場很容易保持清潔衛生，因為不需要運輸、儲存、排放等處理措施； 7.等離子體清洗機清洗的最大技術特點是可以處理不同的基材，無論是金屬、半導體、氧化物還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂等高分子材料)。因此，它特別適用于不耐熱和不耐溶劑的基材。此外，整體、局部或復雜的結構可以有選擇地清洗； 8.在清潔和去污的同時，它還可以改變材料本身的表面性能，例如改善表面的潤濕性能和薄膜附著力，這在許多應用中非常重要。